產品中心
PRODUCT CENTER
聯系我們 /contact us
產品列表
1100℃高溫高壓管式爐
此款爐管采用無縫鎳基合金管,此款設備專為高溫高壓實驗設計，最高壓力高達21MPa，最高溫度可達1100℃，并可通入多種氧化或惰性保護氣體。對于高壓制備新材料和作為小型熱等靜壓處理合金樣品，這是一款理想的高溫管式爐。
1700℃ CVD系統
該常規型CVD設備是由1700℃管式爐、三路質量流量計和真空泵系統組成，用戶可以選配不同型號的爐子和氣路系統搭配不同的化學氣相沉積系統。
定制款旋轉管式爐
主要功能和特點：1、設備爐管可360度旋轉，管內壁有不銹鋼擋片幫助粉料翻轉有助于燒結得更均勻。2、可大角度傾斜，方便進出料。3、采用法蘭連接，減少了加熱管損壞的可能，取、放物料更加方便快捷。4、上開式爐蓋設計，可以實時觀察加熱的物料，并能迅速降溫，滿足材料驟冷驟熱的實驗需要；5、具有超溫報警，漏電保護等安全操作功能。
1500℃小型開啟式管式爐
型號：T1550S-O 特點：爐膛可開啟，方便取放爐管，體積小巧，在實驗室不占地方，是一款性價比高的高溫管式爐
1200℃雙溫區管式爐
1200℃雙溫區管式爐，其最高溫度可達到1200℃，并可通過調節兩個溫區的控溫程序使爐管內溫場形成一溫度梯度。兩個溫區分別由兩個獨立的溫控系統來控制，而且都為PID30段程序化控溫。此系列管式爐可以用CVD方法來生長納米材料和制備各種薄膜。
1700℃雙溫區真空管式爐
型號：
T1760B
產品概述：
T1760B是一款雙溫區管式爐，剛玉管外徑60mm，加熱元件為硅鉬棒，加熱區分為兩個溫區可同時燒結兩種材料，也可以作為加長單溫區管式爐使用，控溫精度±1℃，控溫方式采用30段控溫，最高溫度可達1700℃。
1200℃三溫區管式爐
型號：
T1280C
用途：
某些熱處理實驗有時需要一個或多個溫度梯度，比如CVD等鍍膜試驗。如此就會用到多溫區的管式爐。
規格：
Φ60*1400mm
特點：
三個溫區分別控制，互不影響。
1200℃ mini型真空管式爐
型號：
T1250S
用途：
物理/化學氣象沉積（CVD/PVD）實驗以及真空/氣氛保護燒結、納米材料制備等。
規格：
Φ50*600mm
特點：
較小的爐膛不僅使得溫度控制更加精準而且具有好的穩定性
1700℃單溫區真空管式爐
型號：
T1760A
用途：
物理/化學氣象沉積（CVD/PVD）以及真空/氣氛保護燒結、納米材料制備。
規格：
單溫區 管徑大小為Φ60*1000mm
特點：
控溫精準/ 可預存1條曲線/ 法蘭設有測溫孔
1100℃大口徑真空管式爐
型號：
T12152C
用途：
此設備是專門為大工件或大批量熱處理生產而研發制造的。
規格：
Φ152*1650mm
特點：
152mm超大管徑，1100mm超長溫區。
爐膛移動式管式爐
型號：
CMT1200
用途：
主要用于快速升降溫領域。
規格：
Φ60*1000mm
特點：
爐膛可以根據設定要求，不但可以實現自動左右移動，而且移動速度可人工調節。
1500℃單溫區真空管式爐
型號：
T1560A
用途：
1500溫度范圍內真空或氣氛環境下燒結、還原、CVD鍍膜等實驗
上一頁
1
2
下一頁
集研發、制造、銷售、技術服務于一體的現代高科技企業
電話：0371-55027790 / 55027782 / 15637176302
地址：河南自貿試驗區鄭州片區（經開）第十大街136號
版權所有 ? 河南成儀設備科技有限公司 豫ICP備19018065號-1
微信公眾號
移動端二維碼
